《大国芯工》第一四七章 寻找外援

    大国芯工正文卷第一四七章寻找外援芯片加工厂的事按部就班的进行，王岸然也放下一块大石头。
    不过这只是开始，王岸然要买的不仅仅是一摊子设备，二是要消化技术。
    就那光刻机来说，这套设备使用的是尼康生产的gkl107436纳米波长紫光光源，用的是高压汞灯过滤之后色波长。
    这套设备用不了几年就会被淘汰。
    相比于市场上更为先进的248纳米的紫光光源光刻机落后了两代，中间相隔了一代365纳米光源光刻机。
    要知道365纳米和248纳米光源，中间隔了一道鸿沟。
    436纳米紫光光源演进到365纳米紫光光源，只能说是技术的进步，所用的光源都是高压汞灯。
    而到了248纳米紫光光源，那就是技术的换代，所用的光源是卤素激光光源。
    而且，王岸然记得很清楚，在1995年，193纳米紫光激光光源的光刻机在技术上已经取得重大突破，在今后的几年也将投入市场。
    要知道，芯片生产的核心装备光刻机，每一次更新换代付出的代价，至少是百亿美的数量级金，而且越往后越难。
    历史上，193纳米紫光光刻机之后的换代，玩死了一大批老牌光刻机厂家。
    原本全世界可以生产光刻机的有十三家，日本就有四家，到157纳米光刻机之后，也就ASML能勉强活下来，其他一大批厂家要么倒闭，要么半死不活。
    岛国最顶尖的尼康和佳能，也因为方向错误，在157纳米干式光刻与ASML浸没式光刻机在竞争中落败。
    再加上ASML又搞出个双工作台技术，大大提高了芯片的生产力和精度。
    让两大巨头彻底从生产高端光刻机，沦为售卖中低端产品，再也无力最顶尖的极紫光光刻机的竞争。
    到了9102年，全世界的高端市场，只养活了一家ASML。
    事实上，如果没有台积电，Intel，三星等芯片巨头的输血，硕果仅存的ASML也将被市场的浪潮吞没，光是台积电和三星，在2016年就投了20亿欧元，砸在ASML身上。
    难，真难，也不一定会取得成功，光刻机的研究就是吞金巨兽，有没有意义？
    这是肯定的。
    这不是钱的事。
    但光刻机，光刻胶，蚀刻机，封装设备，光凭华芯科技一家，吃透这些技术基本上不可能，这需要调动全社会的力量。
    在清大的光学研究所，王岸然生了一肚子的闷气。
    刘本清教授在激光光源上耕耘一生，在1971年，参与了我国第一台紫光干涉激光的研制，在1980年，负责国家第一台接近式JL_01光刻机的研制。
    他实在受不了，自己的研究工作，会受一个毛头小伙子的指点。
    而王黯然也是气不过，自己在光学研究所投了上千万，现在好了，就是增加一个浸没式光刻机的探讨研究，就这么难？
    “王总，我再重申一遍，浸没式光刻机虽然在理论上可以缩小投影图，不过在实际操作上，已经被证明了，这套技术行不通，研究下去就是浪费钱。”
    “刘教授，我只是建议在这上面再做一些探讨，而且这项技术并没有证明行不通，而是还没有行通。”
    刘本伟不屑一顾。
    “王总，我跟你说这句话是实事求是的，浸没式光刻技术在七八年前就有立项，其中的困难跟你说，你也不清楚。
    我只想说明一点，有那个精力研究浸没式光刻机，把精力投到紫光激光光源上，效果会好的多。”
    看来在这个时代，大家的普遍意识就是，搞浸没式光刻机是条绝路。
    王岸然深吸一口气，犟鸭子嘴硬的科研人员太多了，自己当初也是他们的一员，跟刘本清生气，就是跟自己生气。
    这些人要是犯气牛脾气来，能把天捅破，唯一的解决之道，就是以德服人，哦，不，是以理服人。
    “超高纯度折射率液体，往往水里有一粒微尘，或者一个气泡，或者多了一些离子，都可能对加工造成巨大的影响。
    再加上高纯水浮在晶片上，目前的光刻胶中的分子会溶进水中，造成液体介质污染，刘教授，我说的没错吧！”
    刘本清在王岸然说第一句话的时候就愣住了，什么情况，他懂。
    待到王岸然将两大技术难点合盘而出，刘本清说道：“王总，你……？”
    王岸然装着没看见，背过身，继续说道：“除了两大问题，在实际操作中，也会面临平台的稳定性，校准系统，曝光时间等问题，需要按每台机器的类型多次调试……”
    刘本清想给王岸然竖个大拇指，说一声牛，这些资料可不怎么容易找到。
    “王总，既然你知道浸没式光刻机的缺陷，还需要继续坚持吗？”
    王岸然点点头，说道：“为什么不！刘教授，高纯水介质我们可以自己研发也可以跟外国合作，厌水光刻胶我们也可以这么办，当然，也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜，没有试过，怎么知道不行！”
    “我们试过很多种办法！”
    “那就再试，试到解决为止……”
    王岸然毫不客气，作为投资人，他是来发布命令的，而不是跟你讨价还价。
    浸没式光刻机肯定是未来的方向，而且波长越长，通过折射后，缩微的效果越明显。
    况且，光刻机的波长并能完全决定芯片的制程，通过特定的曝光方式也可以提高制程。
    事实证明，193纳米的紫光光源，也可以进行65纳米芯片工艺的生产。
    以前世对半导体芯片制造的理解，浸没式光刻，多重曝光方式能够取得进步的话，完全可以将这台东芝的二手货，改造成一台可以生产800纳米工艺的芯片加工厂，甚至更为先进的320纳米工艺也不是不可能。
    只不过芯片生产的效率，肯定会差很多，但至少说明一点，我们掌握了这项技术。
    而且通过这一过程，华芯科技还可以积累这部分的专利，在ASML前面设置一套专利壁垒。
    至于这套专利有什么用，王岸然无法评估，按照他的估计，到那个时候，美利坚政府应该也会插手吧！
    还有五年的时间，王岸然在纸上写下磁悬浮双工作台，浸没式光刻系统，两大未来发展方向。
    这次他不打算，光靠国内研究机构的力量。
    “该到寻找外援的时候了！”